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仪器名称: 全谱ICP光谱仪-Plasma 2000
仪器型号: Plasma 2000 全谱ICP
制 造 商: 钢研纳克
原 产 地: 北京
仪器特点技术参数仪器介绍

   钢研纳克ICP光谱仪源于钢铁研究总院,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP检测标准的起草单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位,最懂ICP应用的国产ICP光谱仪制造商。央企品牌,上市公司,品质之选!欢迎来电洽谈. 联系人:文经理 电话:400-6218-010 手机18511681023


仪器特点:

稳健高效的全固态光源

    全固态射频发生器,体积小、效率高,全自动负载匹配,速度快、精度高,能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试,具有优异的长期稳定性。

    垂直炬管的设计,具有更好的样品耐受性,减少了清洁需求,降低了备用炬管的消耗。

    简洁的炬管安装定位设计,快速定位,精确的位置重现。 

    实时监控仪器运行参数,高性能CAN工业现场总线,保障通讯高效可靠。

 

精密的光学系统

中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,使用超纯SiO2棱镜,高光路传输效率,保证了深紫外区的元素测量。

    优化的光学设计,采用非球面光学元件,改善成像质量,提高光谱采集效率。

光室多点充气技术,缩短光室充气时间,提高紫外光谱灵敏度及稳定性,开机即可测量。

光室气路独立,可充氮气或氩气。

      包围式立体控温系统,保障光学系统长期稳定无漂移。

 

进样系统

仪器配备系列经过优化的进样系统,可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸等样品的测试。

使用一体式炬管,易于维护,转换快速,使用成本低。

使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量,流量连续可调,保障测试性能长期稳定。

4通道12滚轮蠕动泵,泵速连续可调,确保样品导入稳定性。

   

检测器

大面积背照式CCD检测器全谱段响应,高紫外量子化效率,抗饱和溢出

具有极宽的动态范围和极快的信号处理速度

一次曝光,完成全谱光谱信号的采集读取,获得更为快速、准确的分析结果

同类产品中最大靶面尺寸,百万级像素,单像素面积24μm X 24μm

三级半导体制冷,制冷温度低于-35,具有更低的噪声和更好的稳定性